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BOB体育平台盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH顺利出机

发布时间:2023-01-16      来源:网络


  bob综合app手机客户端盛美上海宣布,首台具有自主知识产权的涂胶显影 Track 设备 Ultra LITH 成功出机,顺利向中国国内客户交付首台前道 ArF 工艺涂胶显影 Track 设备,该设备由盛美半导体设备 (亚太) 制造中心完成出货。

  盛美上海将于 2023 年推出 i-line 型号设备,并且公司已开始着手研发 KrF 型号设备。

  涂胶显影 Track 设备支持光刻工艺,可确保满足工艺要求,同时让晶圆在光刻设备中曝光前后的涂胶和显影步骤得到优化。

  IT之家获悉,盛美上海涂胶显影 Track 设备是一款应用于 300 毫米晶圆工艺的设备,共有 4 个适用于 12 英寸晶圆的装载口,8 个涂胶腔体、8 个显影腔体。该设备腔体温度可精准控制在 23C 0.1C ,烘烤范围为 50C 至 250C,晶圆破损率低于 1/50,000 。BOB体育平台此外,全球专利申请保护的全新结构设计还可拓展支持 12 个涂胶腔体及 12 个显影腔体,每小时晶圆产能可达 300 片,BOB体育平台将来在配备更多的涂胶和显影腔体的条件下还能达到每小时 400 片以上的产能。

  盛美上海致力打造晶圆级的工艺解决方案平台,旗下产品还包括单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、BOB体育平台立式炉管设备,及 PECVD 设备。